主要用途是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的专用设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。
主要组成设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。
主要特点★生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。★磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。★根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。★采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。★如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。★调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。

主要用途是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的专用设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。
主要组成设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。
主要特点★生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。★磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。★根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。★采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。★如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。★调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。

主要用途是生产各种金属膜电阻及氧化膜电阻的专用设备，可以完成高、中、低不同阻值的镀膜工艺。
主要组成设备由真空室、真空机组、直流溅射源、射频溅射源、分流式滚筒、充气装置、真空测量及其它辅助装置等组成。
主要特点★生产能力大，根据型号的不同，每炉可镀制装载量达分别为10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷体。★磁控溅射源工作特性稳定可靠，沉积速率高，阴极体采用可变磁场，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。★根据不同电阻值和工艺要求配置不同溅射源，工艺适应性强。如配置射频溅射源可镀制介质膜，配备离化源可镀制氧化膜。★采用特殊分流式滚筒，瓷体镀制膜层均匀，阻值集中。★如配用PLC可编程控制，设备自动化水平提高，性能更加可靠，操作更为简便。★调节沉积室的气氛可控沉积膜的阻值和TCR（温度系数）；镀制后电阻在合适的“后调整”热处理后TCR可接近于零。

JN-CLD系列真空磁控溅射镀膜机广泛应用于家电电器、钟表、灯具、工艺美术品、玩具、车灯反光罩、手机按键外壳以及仪器仪表、塑料、玻璃、陶瓷、磁砖等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。所谓“溅射”就是用荷能粒子（通常用气体正离子）轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象，早在1842年Grove在实验室中就发现了这种现象。磁控溅射靶采用静止电磁场，磁场为曲线形，均匀电场和对数电场则分别用于平面靶和同轴圆柱靶。电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，若电子具有足够的能量（约为30ev）时，则电离出Ar+并产生电子，电子飞向基片，Ar+在电场作用下，加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。
本公司的磁控溅射镀设备有以下几大特点：1） 膜厚可控性和重复性好，能够可靠的镀制欲定厚度的薄膜，并且，溅射镀膜可以在较大的表面上获得厚度均匀的膜层；2）薄膜与基片的附着力强，并且部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原子相互溶合的伪扩散层；3）可以制备特殊材料的薄膜，可以制膜层可以使用不同的材料同时溅射制备混合膜、化合膜，还可溅射成TiN仿金膜；4）膜层纯度高，溅射膜层中不会混入坩锅加热器材料的成份。
本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和最先进的生产工艺。
温州市佳能真空电镀设备科技有限公司是一家以真空镀膜设备为主营业务，集研发、生产、销售、服务于一体的综合性高科技环保型企业。佳能真空既是设备制造商，也是镀膜工艺的开发商，可为客户提供整套设备、工艺流程的设计以及技术人员的培训。
公司拥有一支技术精良的研发团队，并聘请国内外多位知名专家为技术顾问，具备较强的自主研发能力，现已研发制造连续式磁控溅射镀膜生产线、平面矩形弧工具镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、中频磁控溅射镀膜机、多弧离子镀膜机、光学镀膜机以及真空蒸发镀膜机等系列真空镀膜设备。佳能真空多年来凭着优质的产品和周到的售后服务，深受业内人士的好评，并已通过ISO9001国际质量管理体系认证。
科技创造品质、诚信打造品牌是我们的经营原则，信誉第一、客户至上是我们的服务宗旨，一流的售后服务是我们的服务保障，不断创新是我们佳能永恒的追求，我们将竭诚为国内外客商提供更好的产品，更优的价格和更完善的售后服务，佳能真空期待与您共创佳业。

联系人：林锡强
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邮箱：jianeng@jianengsb.com
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公司地址：中国浙江省温州市瓯海经济开发区北纬一路31号

JN-DCLD系列玻璃水晶灯饰真空离子镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的先进专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其最大特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。由于配有先进的电器控制系统及稳定的工艺界面,针对各种金属进行表面镀膜.例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业（卫生洁具、门把手、拉手、门锁等）、建筑行业（不锈钢板、楼梯扶手、立柱等）、精密模具业（冲棒标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头）、汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）以及钢笔、眼镜等等，使其表面得到既美观又耐磨的功能性磨层.主要镀制的膜层有:离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬以及RP镀等超硬功能性金属膜，经离子镀膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蚀和美化的作用。可镀制颜色有钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列共十多种色系。
PVD多弧离子镀原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子.由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。
本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和最先进的生产工艺。

本机采用静止电场，具有高速、低温等特点。
本机具有容积大，装置产品多、速度快、膜层牢固等优点。
本机适用于金属表面的镀铝及塑料制品的表面装饰性镀膜。
本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工，操作工培训和最先进的生产工艺。

JN-DCLD系列真空多弧磁控溅射复合离子镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的先进专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其最大特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。由于配有先进的电器控制系统及稳定的工艺界面,针对各种金属进行表面镀膜.例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业（卫生洁具、门把手、拉手、门锁等）、建筑行业（不锈钢板、楼梯扶手、立柱等）、精密模具业（冲棒标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头）、汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）以及钢笔、眼镜等等，使其表面得到既美观又耐磨的功能性磨层.主要镀制的膜层有:离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬以及RP镀等超硬功能性金属膜，经离子镀膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蚀和美化的作用。可镀制颜色有钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列共十多种色系。
PVD多弧离子镀原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子.由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。
本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和最先进的生产工艺。

JN-DLD系列PVD超硬质涂层（工模具）真空镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的先进专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话，简便，镀出的膜层牢固且细密，是工业化生产的理想设备，其最大特点是它的环保性，真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备，无须环保部门审批。由于配有先进的电器控制系统及稳定的工艺界面,针对各种金属进行表面镀膜.例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业（卫生洁具、门把手、拉手、门锁等）、建筑行业（不锈钢板、楼梯扶手、立柱等）、精密模具业（冲棒标准件模具、成型模具等）、工具行业（钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头）、汽车工业（活塞、活塞环、合金轮毂等）以及钢笔、眼镜等等，使其表面得到既美观又耐磨的功能性磨层.主要镀制的膜层有:离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬以及RP镀等超硬功能性金属膜，经离子镀膜加工后的工件，可以提高硬度、耐磨度，抗腐蚀和美化的作用。可镀制颜色有钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列共十多种色系。
PVD多弧离子镀原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子.由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。
本公司拥有最完善的售后服务体系，使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和最先进的生产工艺。

JN-GLD系列真空光学（电子枪）镀膜机可镀制增透膜、反射膜、滤光膜、分光膜、带通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各种膜系，能够实现0-99层膜的膜系镀膜，也能满足如汽车反光玻璃、望远镜、眼镜片、光学镜头、冷光杯等产品的镀膜要求，配置不同的蒸发源、电子枪和离子源及膜厚仪可镀多种膜系；对金属、氧化物、化合物及其他高熔点膜材皆可蒸镀，并可在玻璃表面超硬镀膜。